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掃除高電壓障礙 真空電晶體可望成真


" H. K# m0 S, y9 o: B4 n& gos.tvboxnow.com美國匹茲堡大學的研究人員研發了一種元件結構,相較於目前的固態,能讓開關(switch)以真空狀態做為電晶體內的電子傳輸介質。 , w; p$ `* u: K# Z! m! H  h6 c0 C: i$ O
該研究團隊提出了一種以深溝槽、側邊曝光的金屬-氧化矽-矽三層MOS垂直結構;金屬層與矽晶層是元件的正極與負極,中間隔著絕緣氧化矽,
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而電子傳輸就是透過真空以垂直方向進行。此研究成果最近發表於7月1日出刊的《Nature Nanotechnology》期刊中,
; ~) c& O. Q+ j8 [9 STVBNOW 含有熱門話題,最新最快電視,軟體,遊戲,電影,動漫及日常生活及興趣交流等資訊。論文題為「具備真空通道的金屬氧化物半導體場效電晶體(Metal-oxide-semiconductor field effect transistor with a vacuum channel)」。
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以上研究成果也意味著回歸電子元件的起源;固態電晶體是在1947年發明,以取代體積笨重、可靠性不佳的真空管。
+ F" e! G/ X# b0 j& T- N公仔箱論壇過去也有人嘗試過以固態半導體製程技術,製作小型化的真空管式電子元件,但是此概念一直在克服高電壓需求,
: Z6 z: {1 k/ W/ @; o+ g公仔箱論壇以及與現有固態CMOS技術的相容性問題。 為此匹茲堡大學斯萬森工程學院(Swanson School of Engineering)教授Hong Koo Kim所率領的團隊,TVBNOW 含有熱門話題,最新最快電視,軟體,遊戲,電影,動漫及日常生活及興趣交流等資訊。1 S, g$ R+ C1 L) {& e7 ]# @6 Z
重新設計了真空管電子元件的架構;他的團隊成員還包括博士候選人 Siwapon Srisonphan 與博士後研究員Yun Suk Jung Kim。公仔箱論壇/ h- I& C+ n; d9 i( R/ K

1 |  v: A) p0 Z+ ntvb now,tvbnow,bttvb該團隊發現,半導體元件中的電子若被捕捉至一個氧化物或是金屬層介面,就能輕易被提取至空氣中。 在材料介面裡的電子會形成一片電荷,
' X; u0 [  ]: E' O也就是一種二維電子氣(electron gas);而且Kim發現,電子之間的庫倫斥力(Coulombic repulsion),讓電子能容易地從矽散發出來。
* X2 @8 |2 l2 D! z) M) X& e這可催生一種低電壓元件,其內部的電子會在一個奈米級的通道中以彈道模式(ballistically)在空氣中遊走,不會有碰撞或是散射。 tvb now,tvbnow,bttvb9 T: T# Z: i; ]) Y: |& {( z" L( w9 a
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根據論文的描述,該通道的長度約是20奈米,研究團隊並量測到20ns/ micron的跨導(transconductance),500開關比(on/off ratio),tvb now,tvbnow,bttvb) Y( |' o9 |1 a) V" C6 J0 s: C) H: W
以及環境條件(ambient condition)下0.5V的導通閘極電壓(turn-on gate voltage)。 「這種電子系統至真空通道的發射,! T9 c. k; L. X' q& K+ b
能實現全新的一系列低電壓、高速電晶體,而且這種電晶體能與目前的矽電子元件相容,為這些電子元件添加因為低電壓可帶來的更高速度與省電效益。」tvb now,tvbnow,bttvb$ G; K/ R+ m, V4 |
Kim表示。 參考原文: Researchers try vacuum transistors at low voltage,by Peter Clarke
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