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標題: [手機情報] Samsung 與美國晶片公司合作,有望切底改善 3nm 良率超越台積電 [打印本頁]

作者: sun7005    時間: 2022-11-23 09:54 AM     標題: Samsung 與美國晶片公司合作,有望切底改善 3nm 良率超越台積電

曾經 Samsung 可是一大晶片巨頭,不僅市場份額大,而且口碑也一直不錯。不過如今卻沒落,最終不抵台積電。11 月19 日消息,韓媒 Naver 報導,Samsung 已經與美國的 Silicon Frontline Technology 公司合作,以便能夠提高其半導體晶片在生產過程中的良率,望重新贏得市場,並在 3nm 工藝上超越台積電。tvb now,tvbnow,bttvb# _) _1 B6 {0 q0 C* g+ w3 M
   
, B1 X$ j; E1 }6 T5 @6 M; ]os.tvboxnow.comTVBNOW 含有熱門話題,最新最快電視,軟體,遊戲,電影,動漫及日常生活及興趣交流等資訊。+ D4 T0 {$ N# z& |

) Z$ g1 K, s# ]/ h/ d事實上,Samsung 電子先進製程良率非常低,自從 5nm 開始就一直存在問題,到 4nm 後問題更是嚴重,其中核心問題就是良率低,據傳 3nm 至今的良率甚至還不到 20%,導致量產進度陷入瓶頸。
% B# k% m: t$ G& P) c. Btvb now,tvbnow,bttvb因此 Samsung 希望能通過和 Silicon Frontline Technology 公司合作,幫助 Samsung 進行前端(front-end)工藝和晶片性能改進。
# Q7 I! f: Z, P& y. T8 x7 Bos.tvboxnow.com據了解,這家美國公司提供晶片鑑定評估和 ESD(靜電放電)預防技術。 ESD 是造成半導體晶片缺陷的主要原因之一,是由製造過程中設備和金屬之間的摩擦造成的。
2 w" j5 l1 [8 n& J8 ]/ b2 c4 `據報導,Samsung 在晶片設計和生產過程中已經與 Silicon Frontline 公司合作了很長一段時間,並且也取得了令人滿意的結果。
( W; f) J: @9 |" r+ j- d公仔箱論壇目前 Samsung 已經在晶片驗證過程中使用了該公司的最新技術,並且有望切底改善良率低的問題。




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