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標題: [手機情報] Samsung 與美國晶片公司合作,有望切底改善 3nm 良率超越台積電 [打印本頁]

作者: sun7005    時間: 2022-11-23 09:54 AM     標題: Samsung 與美國晶片公司合作,有望切底改善 3nm 良率超越台積電

曾經 Samsung 可是一大晶片巨頭,不僅市場份額大,而且口碑也一直不錯。不過如今卻沒落,最終不抵台積電。11 月19 日消息,韓媒 Naver 報導,Samsung 已經與美國的 Silicon Frontline Technology 公司合作,以便能夠提高其半導體晶片在生產過程中的良率,望重新贏得市場,並在 3nm 工藝上超越台積電。  E* \# g% \" q" v
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; Z; E; g  D- M' f事實上,Samsung 電子先進製程良率非常低,自從 5nm 開始就一直存在問題,到 4nm 後問題更是嚴重,其中核心問題就是良率低,據傳 3nm 至今的良率甚至還不到 20%,導致量產進度陷入瓶頸。. F1 }! Q4 F1 H% [7 H  ]8 \
因此 Samsung 希望能通過和 Silicon Frontline Technology 公司合作,幫助 Samsung 進行前端(front-end)工藝和晶片性能改進。
; @! a: M2 v, ]% K0 H1 J7 v據了解,這家美國公司提供晶片鑑定評估和 ESD(靜電放電)預防技術。 ESD 是造成半導體晶片缺陷的主要原因之一,是由製造過程中設備和金屬之間的摩擦造成的。os.tvboxnow.com" w2 T  T) w7 e' F  o
據報導,Samsung 在晶片設計和生產過程中已經與 Silicon Frontline 公司合作了很長一段時間,並且也取得了令人滿意的結果。
- e) [7 N! N# F/ _; zos.tvboxnow.com目前 Samsung 已經在晶片驗證過程中使用了該公司的最新技術,並且有望切底改善良率低的問題。




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